一、什么是等离子体清洗
等离子技术清理是运用用一种叫作等离子技术的离子气体清除材质表面层全部有机化合物的流程，一般是在真空室中运用O2和氩气进行。清理流程是一种安全卫生的流程,不应用有危害的化学有害物质清除残渣和污染源。
二、处理效果可以保持多长时间
如清理表面层维持整洁和低温干燥，绝大部分等离子清理后功效能够 维持大概四十八个小时，但维持的时间依据操作过程和设备储存室内环境而发生变化。假如需用更长时间维持清理功效,清洗成功后真空包装将增加有效期。
三、等离子处理为什么需要真空环境
在真空环境造成等离子技术的原因许多,关键有两种原因：导入真空室的空气在压力差室内环境下不易水解,在充进空气水解造成等离子技术以前，务必做到真空环境。
此外,真空环境容许咱们操纵真空室中气体种类，操纵真空室中气体种类空气类型对等离子体解决流程的可重复性是尤为重要的。

四、真空等离子处理是如何进行
要开展等离子清理设备,首先咱们形成等离子体。
第一，单一化空气或是混合气被导入密闭的低电压真空等离子体室。接着这一些空气被两种电极板之间形成的射频（RF）激活，这一些空气中被激活的离子加快颤动。这类振动“用劲清理”要清理材质表面层的污染源。
在操作过程中,等离子体中被激活的分子和原子会产生紫外光线，进而形成等离子体，温度控制器常见于操纵刻蚀速率。
60-90摄氏度环境温度之间刻蚀，是室内温度刻蚀速率的4倍，对环境温度灵敏的零部件或构件,等离子体蚀刻环境温度能 操纵在15摄氏度。
咱们所有的温度控制器早已预编程并集成到等离子体系统的系统之间，设定存放每一个等离子清理的程序能简单复制操作过程。
能够根据向等离子体室中导入不一样空气，更改操作过程，常见的等离子清理空气包括O2、N2,Ar,H2和CF4，全球各地的绝大部分试验室，大部分都应用这些空气单独或是混合应用，开展等离子体清理。等离子体操作过程一般要大概2到10分钟。当等离子体操作过程完成时,真空泵去除等离子室中的污染源，室里面的材质是清洁、消过毒的,能够开展粘接或下一步程序。

 
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