等离子清洗机会使用各种气体，表面清洗和活化通常会使用氧、氢、氮和压缩空气，但根据工艺要求也会使用氩气。那么为什么要使用这种气体，以及它在等离子清洗机中的主要作用是什么？

氩气是一种惰性气体，电离后产生的离子体与基体不发生化学反应。在等离子体清洗中，氩主要用于基体表面的物理清洗和表面粗化。因此，氩气等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。

 一、表面清洁 在晶圆、玻璃等产品的表面颗粒去除过程中，通常采用等离子体对表面颗粒进行轰击，以实现颗粒的分散和松动，然后再进行离心清洗等工艺。尤其是在半导体封装过程中，完成打线工艺后防止导线氧化，是采用氩等离子体或氩氢等离子对表面进行清洗。 

 二、表面粗化 等离子清洗机的表面粗糙也称为表面刻蚀，目的是提高材料的表面粗糙度，从而增加材料的粘接、印刷和焊接。活性气体处理过后也可以增加表面张力，但氩离子化产生的颗粒相对较重，在电场作用下氩离子的动能明显高于活性气体，因此其粗化效果更明显，在无机物表面粗化过程中应用最广泛。如玻璃基材表面处理、金属基材表面处理等。

 三、活性气体辅助 在等离子清洗机的活化和清洗过程中，混合工艺气体相对来说会取得较好的效果，由于氩的分子量较大，电离后产生的颗粒比较后，当表面清洗和活化通常与活性气体结合时效果较好，最常见的是氩和氧的混合物。