常压等离子清洗机的几种频率区别与运用

　常用的等离子体激起频率有三种：激起频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。不平等离子体发生的自偏压不一样，超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只要几十伏，而且三种等离子体的机制不同。

　超声等离子体发作的反响为物理反响，射频等离子体发作的反响既有物理反响又有化学反响，微波等离子体发作的反响为化学反响。超声常压等离子清洗机对被清洁外表发生的影响最大，因而实践半导体生产使用中大多选用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。而超声等离子则使用于外表除胶、毛刺打磨等处理方面作用最佳，典型的等离子体物理清洗工艺是在反响腔体中加入氩气作为辅佐处理的等离子体清洗；氩气自身是惰性气体，等离子体的氩气不好外表发作反响，而是经过离子轰击使外表清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。经过等离子体发生的氧自由基十分生动，简单与碳氢化合物发作反响，发生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，然后去除外表的污染物。

　以物理反响为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于自身不发作化学反响，清洁外表不会留下任何的氧化物，能够保持被清洗物的化学纯净性，还有一种等离子体清洗是外表反响机制中物理反响和化学反响都起重要作用，即反响离子腐蚀或反响离子束腐蚀，两种清洗能够互相促进，离子轰击使被清洗表面发生损伤削弱其化学键或许形成原子态，简单吸收反响剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更简单发生反响。选用40KHZ超声等离子再加入适当的反响气体，能够有效去除胶质残渣、金属毛刺等等，因为40KHz为较早的技术，其射频匹配后能量消耗过大，实践作用到清洗物上的能量不足原有能量的1/3。 所以实践使用中大多选用13.56MHz射频等离子体清洗，这个频率也是现在国际上最流行的。2.45G的微波等离子大多使用于某些有特殊需求的科研及试验室。